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  • UV253V8/UV253V8R日本Filgen紫外臭氧有機溶劑超聲波清洗儀

    日本Filgen紫外臭氧有機溶劑超聲波清洗儀 UV253V8/UV253V8R ●單獨使用超聲波清洗無法去除的基材上的有機污染物可以輕松去除。 ●濕法清洗中使用的有機溶劑也被去除。 ●可以在不損壞基材表面的情況下去除有機污染物。 ●LB膜的堆積變得容易。(累計率將大幅提升。) ●一種可在常壓下使用且不需要真空裝置的干洗設備。

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    2025-05-06

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  • OPC60A日本進口filgen等離子鍍膜機EVO涂層多功能

    日本進口filgen等離子鍍膜機EVO涂層多功能 OPC60A 這是一種以SEM樣品為主的導電性薄膜的制造裝置,采用“利用直流輝光放電的負輝光相區域的等離子膜制造方法”。

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    2025-05-06

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  • OPC60A/OPC80T日本Filgen等離子鍍膜機用于導電性薄膜裝置

    日本Filgen等離子鍍膜機用于導電性薄膜裝置 OPC60A/OPC80T 電子顯微鏡試樣用導電性薄膜制作裝置等離子體涂布機 ◆膜專用型(OPC60A) ◆膜/等離子體聚合膜雙用型(OPC80T) ◆導電性超薄膜制膜機構 ◆親水化處理機構 ◆深型試樣機構 ◆可選消耗品

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    2025-05-06

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  • PF-F系列日本DIC酸、堿、有機溶劑等液體脫氣裝置

    日本DIC酸、堿、有機溶劑等液體脫氣裝置 PF-F系列 脫氣膜采用PTFE,接觸液體部全部為氟樹脂制的脫氣模組。可進行酸、堿、有機溶劑等液體的脫氣。 可用于在半導體、LCD制造過程中使用液體的脫氣、除泡(各種抗蝕劑、稀釋劑、化學制劑等) 溶劑型噴墨墨水的脫氣

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    2025-05-06

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  • PF-F系列日本DIC用于半導體/化學制劑等脫氣裝置

    日本DIC用于半導體/化學制劑等脫氣裝置 PF-F系列 脫氣膜采用PTFE,接觸液體部全部為氟樹脂制的脫氣模組。可進行酸、堿、有機溶劑等液體的脫氣。 可用于在半導體、LCD制造過程中使用液體的脫氣、除泡(各種抗蝕劑、稀釋劑、化學制劑等) 溶劑型噴墨墨水的脫氣

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  • Xevios多用途清洗裝置高壓脈沖噴射清除異物

    Xevios多用途清洗裝置高壓脈沖噴射清除異物 兼容晶圓、石英、玻璃、藍寶石、SiC等多種材質。 結合高壓間歇噴射、二流體噴射、各種刷子、超聲波、化學溶液等,可應對從粗加工到各種清洗工藝。拋光后清洗至精密清洗。

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    2025-05-06

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  • EJ-380IN-CH / EJW-400IFEngis臺式和固定式研磨設備超精密研磨加工

    Engis臺式和固定式研磨設備超精密研磨加工 EJ-380IN-CH / EJW-400IF 臺式和固定式研磨設備設計為的設備尺寸,用于構建從實驗室規模到生產規模的高度靈活的拋光工藝。采用特別適合金剛石研磨的高剛性機身和開發的水冷主軸,使研磨機的表面溫度始終保持恒定,實現高旋轉精度、振動小。

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  • MSK-SFM-3-IIMTI雙軸高能旋轉振動球磨機研磨成納米級

    MTI雙軸高能旋轉振動球磨機研磨成納米級 MSK-SFM-3-II MSK-SFM-3-II 是一款雙軸高能球磨機,具有 3D 運動,可同時將兩種粉末研磨成納米級。 它具有由三維運動產生的更高沖擊力,例如旋轉、振動和振蕩,頻率高達 1000 RPM。 24VDC 電機內置獨立可編程控制單元,可 在氬氣手套箱內操作。

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    2025-05-06

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