日本shinkuu貴金屬薄膜鍍膜研究磁控濺射儀

日本shinkuu貴金屬薄膜鍍膜研究磁控濺射儀
專為掃描電子顯微鏡（SEM）觀察用貴金屬薄膜涂層設(shè)計(jì)，用于防止SEM樣品的充電效應(yīng)，提高二次電子的產(chǎn)生效率。
低電壓放電：采用磁控靶電極進(jìn)行低電壓放電，結(jié)合浮動(dòng)式樣品臺(tái)，減少電子束對樣品的損傷。
操作簡便：只需按下按鈕即可自動(dòng)進(jìn)行涂層處理，操作簡單，任何人都可以輕松操作。

產(chǎn)品型號(hào)：MSP-1S
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2025-10-22
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日本shinkuu貴金屬薄膜鍍膜研究磁控濺射儀
日本shinkuu貴金屬薄膜鍍膜研究磁控濺射儀

專用裝置：專為掃描電子顯微鏡（SEM）觀察用貴金屬薄膜涂層設(shè)計(jì)，用于防止SEM樣品的充電效應(yīng)，提高二次電子的產(chǎn)生效率。
低電壓放電：采用磁控靶電極進(jìn)行低電壓放電，結(jié)合浮動(dòng)式樣品臺(tái)，減少電子束對樣品的損傷。
操作簡便：只需按下按鈕即可自動(dòng)進(jìn)行涂層處理，操作簡單，任何人都可以輕松操作。
小型化設(shè)計(jì)：內(nèi)置旋轉(zhuǎn)泵，體積小巧，不占用過多空間，適合放置在實(shí)驗(yàn)室的角落。
產(chǎn)品套裝：包括裝置本體和一片靶材（用戶可指定類型）。
簡易裝置：由于是簡易裝置，不包含安裝和操作說明。

裝置規(guī)格

電源：AC100V（單相100V 10A），帶地線的三芯插頭。
裝置尺寸：寬200毫米、深350毫米、高345毫米（裝置重量14.6公斤）。
旋轉(zhuǎn)泵：10升/分鐘（內(nèi)置）。
樣品室尺寸：內(nèi)徑120毫米、高65毫米（硬質(zhì)玻璃）。
樣品臺(tái)尺寸：直徑50毫米（浮動(dòng)式）。
電極-樣品臺(tái)間距：35毫米（使用輔助樣品臺(tái)時(shí)為25毫米）。
靶材：直徑51毫米、厚0.1毫米，可選材料包括Pt、Pt-Pd、Au、Au-Pd、Ag（厚0.5毫米）。

用場景

材料科學(xué)：研究和開發(fā)新型薄膜材料，探索其在不同領(lǐng)域的應(yīng)用潛力。
納米技術(shù)：制備納米尺度的薄膜和結(jié)構(gòu)，用于制造高性能的納米器件。
電子顯微鏡：為SEM等電子顯微鏡分析制備導(dǎo)電涂層，提高樣品的導(dǎo)電性和成像質(zhì)量。
光學(xué)領(lǐng)域：制備光學(xué)薄膜，用于光學(xué)元件的表面處理和功能化。
表面工程：對材料表面進(jìn)行改性，提高其耐磨性、耐腐蝕性等表面性能。

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