日本Oxide真空紫外激光光源發生器高穩定性 PEV系列 特點介紹

PEV系列是真空紫外相干光源，專門作為光電子能譜的激發光源。我們基于深紫外激光技術開發了真空紫外光發生器。

通過將其安裝在角分辨率電子能譜儀（ARPES）或TOF分析儀中，可以實現電池材料、納米材料等新材料開發工具。

它還將有助于實現新型激光光電子能譜裝置。

日本Oxide真空紫外激光光源發生器高穩定性 PEV系列 規格參數

由于它是相干光，11eV 光可以通過單個透鏡（微焦點選項）聚焦在目標樣品上。

通過集成光學部分，無需現場設備調整，可以縮短從設備交付到光電子能譜的交貨時間。

雖然它用于物理和化學目的，但它是一種以工業產品質量制造的高度可靠的光源。

模型 PEV-H PEV-L 

光能 11eV* 1 

能量分辨率 <0.6meV 

重復頻率 50兆赫 5MHz* 2 

輸出功率* 3 >5μW >3μW 

脈沖寬度 < 30ps 

特征 降低窺視功率并抑制空間電荷效應 您可以設置適合 TOF * 2 的重復頻率 

ARPES：角分辨率電子能譜的激發光源

TOF：光電子能譜的激發光源

PEV系列是真空紫外相干光源，專門作為光電子能譜的激發光源。我們基于深紫外激光技術開發了真空紫外光發生器。

通過將其安裝在角分辨率電子能譜儀（ARPES）或TOF分析儀中，可以實現電池材料、納米材料等新材料開發工具。

它還將有助于實現新型激光光電子能譜裝置。